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近日,中国科学院微电子研究所集成电路先导工艺研发中心在面向5纳米以下技术代的新型硅基环栅纳米线(Gate-all-around silicon nanowire,GAA SiNW)MOS器件的结构和制造方法研究中取得新进展。
西安理工大学半导体集成电路课件第4章 MOS晶体管及反相器(三)。
西安理工大学半导体集成电路课件第4章 MOS晶体管及反相器(二)。
西安理工大学半导体集成电路课件第4章 MOS晶体管及反相器(一)。
西安理工大学半导体集成电路课件第9章 MOS逻辑功能部件。
阐述了引起MOS场效应晶体管阈值电压不稳定性的几种主要因素,介绍国外对p沟MOS晶体管所做的加速试验的结果。对国产MOS晶体管的阈值电压进行了BT试验。同一类型的管子在不同应力下观察到类似的现象。作图表示阈值电压漂移的平均值随应力时间的变化,从而确定漂移机构。
1A,导通阻抗<2Ω,并具有过流过 压保护功能,低压控制部分的CMOS门电路、CMOS运算放大器、电压比较器等均满足脉宽调制电路的要求,该电路已成功地应用于采用脉宽调制的开关电源,性能良好。

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